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      PECVD系統(tǒng)
PECVD系統(tǒng)
 
PECVD系統(tǒng) 產(chǎn)品簡(jiǎn)介為了降低化學(xué)沉積溫度，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，這種CVD系統(tǒng)稱(chēng)之為等離子.....更多>>
      CVD系統(tǒng)
CVD系統(tǒng)
 
 CVD系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介 常規(guī)CVD系統(tǒng)由管式爐、流量混合器、真空體統(tǒng)三部分組成。改系統(tǒng)可以滿(mǎn)足絕大部.....更多>>
旋轉(zhuǎn)管式爐
 
旋轉(zhuǎn)管式爐 產(chǎn)品簡(jiǎn)介旋轉(zhuǎn)管式爐是指爐管通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)360°正反轉(zhuǎn)，讓內(nèi)部的粉狀或顆粒狀樣品能夠充.....更多>>
1500-1700℃多溫區(qū)管式爐
 
1500-1700℃多溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實(shí)驗(yàn)和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區(qū)設(shè)置.....更多>>
1500-1700℃單溫區(qū)管式爐
 
1500-1700℃單溫區(qū)管式爐 產(chǎn)品簡(jiǎn)介高溫管式爐主要用在高于1200℃的氣氛反應(yīng)燒結(jié)中，其中1500型管式爐可.....更多>>
1200℃三溫區(qū)管式爐
 
1200℃三溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實(shí)驗(yàn)和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區(qū)設(shè)置為同一.....更多>>
1200℃雙溫區(qū)管式爐
 
1200℃雙溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實(shí)驗(yàn)和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區(qū)設(shè)置為同一.....更多>>
1200℃單溫區(qū)管式爐
 
1200℃單溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介1200℃管式爐是在實(shí)驗(yàn)室熱處理中常用的一款設(shè)備，主要用于氣氛保護(hù)或者氣氛反應(yīng).....更多>>
1200℃迷你型管式爐
 
1200℃迷你型管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介這款迷你型管式爐體積小巧，性?xún)r(jià)比極高，而且可以滿(mǎn)足絕大部分氣氛環(huán)境下的實(shí)驗(yàn).....更多>>
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